スパッタリング法によるHfO2基強誘電体厚膜のシリコン基板上への室温製膜とその電気特性および圧電特性評価

Publication Information

Title

Japanese:	スパッタリング法によるHfO2基強誘電体厚膜のシリコン基板上への室温製膜とその電気特性および圧電特性評価
English:

Author

Japanese:	志村礼司郎, 三村和仙, 舘山明紀, 清水荘雄, 舟窪浩.
English:	Reijiro Shimura, Takanori Mimura, Akinori Tateyama, Shimizu Takao, HIROSHI FUNAKUBO.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
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Volume, Number, Page

Published date

Sept. 8, 2020

Publisher

Japanese:
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Conference name

Japanese:	第81回応用物理学会秋季学術講演会
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