室温でのエキシマレーザーアニーリングによる不純物ドープβ-Ga2O3薄膜の固相エピタキシャル成長と特性評価

Publication Information

Title

Japanese:	室温でのエキシマレーザーアニーリングによる不純物ドープβ-Ga2O3薄膜の固相エピタキシャル成長と特性評価
English:	Solid-phase epitaxial growth of impurity-doped β-Ga2O3 thin films by RT-excimer laser annealing

Author

Japanese:	沼田拓実, 甲斐稜也, 大賀友瑛, 金子智, 松田晃史, 吉本護.
English:	Takumi Numata, Ryoya Kai, Tomoaki Oga, Satoru Kaneko, Akifumi Matsuda, MAMORU YOSHIMOTO.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:

Volume, Number, Page

Published date

Sept. 22, 2022

Publisher

Japanese:	応用物理学会
English:	The Japan Society of Applied Physics

Conference name

Japanese:	第83回応用物理学会秋季学術講演会
English:	The 83rd JSAP Autumn Meeting 2022

Conference site

Japanese:	宮城県仙台市
English:	Sendai

Official URL