電子線描画HSQをマスクに用いたBiFe0.9Co0.1O3ナノドットの作製

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Title

Japanese:	電子線描画HSQをマスクに用いたBiFe_0.9Co_0.1O₃ナノドットの作製
English:

Author

Japanese:	中山創, 吉川浩太, Lee Koomok, 安井学, 金子智, 黒内正仁, 重松圭, 東正樹.
English:	Hajime Nakayama, 吉川浩太, Koomok Lee, 安井学, 金子智, 黒内正仁, Kei Shigematsu, Masaki Azuma.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
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Volume, Number, Page

Published date

2024

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	第71回応用物理学会春季学術講演会
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