スパッタリング法による高品質窒化物薄膜のエピタキシャル成長

Publication Information

Title

Japanese:	スパッタリング法による高品質窒化物薄膜のエピタキシャル成長
English:	Epitaxial growth of high-quality nitride epitaxial films using sputtering method

Author

Japanese:	相馬拓人, 平出悠士, 新津甲大, 笹原悠輝, 仙田敬, 水谷仁美, 吉松公平, 安田啓介, 間嶋拓也, 組頭広志, 大友明.
English:	Takuto Soma, Yushi Hiraide, Kodai Niitsu, Yuki Sasahara, 仙田敬, 水谷仁美, Kohei Yoshimatsu, 安田啓介, 間嶋拓也, Hiroshi Kumigashira, Akira Ohtomo.

Language

Japanese

Journal/Book name

Japanese:
English:

Volume, Number, Page

Published date

Mar. 16, 2026

Publisher

Japanese:
English:

Conference name

Japanese:	第73回応用物理学会春季学術講演会
English:

Conference site

Japanese:	東京
English: