Enhancement of the deposition rate of TiO<sub>2</sub> film in radio frequency reactive sputtering

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Enhancement of the deposition rate of TiO₂ film in radio frequency reactive sputtering

著者

和文:	H.SEKIGUCHI, A.KANZAWA, Takahiro IMAI, T.HONDA.
英文:	H.SEKIGUCHI, A.KANZAWA, Takahiro IMAI, T.HONDA.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Vac. Sci. Technol. A

巻, 号, ページ

Vol. 12 No. 6 pp. 3176-3179

出版年月

1994年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: