HfOxNy Thin Films Formed by ECR Ar/O2 Plasma Oxidation of HfN Thin Films

論文・著書情報

タイトル

和文:	HfNのECR Ar/O₂プラズマ酸化によるHfO_xN_y薄膜の形成
英文:	HfO_xN_y Thin Films Formed by ECR Ar/O₂ Plasma Oxidation of HfN Thin Films

著者

和文:	T. Kurose, T. Uchikawa, S. Ohmi, T. Sakai.
英文:	T. Kurose, T. Uchikawa, S. Ohmi, T. Sakai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	The 15th Symposium of The Materials Research Society of Japan

巻, 号, ページ

pp. 129

出版年月

2004年12月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:	Tokyo, Japan