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論文・著書情報


タイトル
和文:極薄SOI層と素子間分離領域の形成を一体化する新技術：SBSI(Separation by Bonding Si Islands) -Si島とSi基板間の熱酸化- 
英文: 
著者
和文: 大理洋征龍, 山崎崇, 盛田伸也, 袴田佳孝, 大見俊一郎, 酒井徹志.  
英文: 大理洋征龍, 山崎崇, 盛田伸也, 袴田佳孝, 大見俊一郎, 酒井徹志.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:第65回応用物理学会学術講演会講演予稿集 
英文: 
巻, 号, ページ         pp. 745/Ⅱ
出版年月 2004年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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