HfOxNy Thin Films Formed by ECR Ar/N2 Plasma Oxidation of HfN Thin Films

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	HfOxNy Thin Films Formed by ECR Ar/N2 Plasma Oxidation of HfN Thin Films

著者

和文:	T. Kurose, T. Uchikawa, S. Ohmi, T. Sakai.
英文:	T. Kurose, T. Uchikawa, S. Ohmi, T. Sakai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	The 15th Symposium of The Materials Research Society of Japan

巻, 号, ページ

pp. G1-O07-M,129

出版年月

2004年

出版者

和文:
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会議名称

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英文:

開催地

和文:
英文: