Lithography Process for Trench Pattern above Large Cavity to Fabricate Fast Scanning Micromirror

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Lithography Process for Trench Pattern above Large Cavity to Fabricate Fast Scanning Micromirror

著者

和文:	和田裕之, Daesung Lee, Stefan Zappe, Uma Krishnamoorthy, Olav Solgaard.
英文:	Hiroyuki Wada, Daesung Lee, Stefan Zappe, Uma Krishnamoorthy, Olav Solgaard.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers Transaction on Electronics

巻, 号, ページ

Vol. E87-C No. 8 pp. 1395-1398

出版年月

2004年8月

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
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