HfNのECR Ar/O<sub>2</sub>プラズマ酸化プロセスによる極薄HfSiONの形成 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	HfNのECR Ar/O₂プラズマ酸化プロセスによる極薄HfSiONの形成
英文:

著者

和文:	黒瀬朋紀, 佐藤雅樹, 大見俊一郎.
英文:	黒瀬朋紀, 佐藤雅樹, 大見俊一郎.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	電子情報通信学会技術研究報告
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 105 No. 318 pp. 17-20

出版年月

2005年10月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	電子情報通信学会SDM研究会
英文:

開催地

和文:	東北大学
英文:

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.