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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:ECR Ar/O2 Plasma Oxidation of HfN Thin Films for High Dielectric HfOxNy Formations 
著者
和文: T. Kurose, T. Uchikawa, S. Ohmi, T. Sakai.  
英文: T. Kurose, T. Uchikawa, S. Ohmi, T. Sakai.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Trans. Mat. Res. Soc. Japan 
巻, 号, ページ Vol. 30        pp. 209-212
出版年月 2005年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 

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