【重要】T2R2・STARSearchの停止と後継システムについて English

Home > ヘルプ 論文・著書情報 タイトル 和文:   英文: ECR Ar/O2 Plasma Oxidation of HfN Thin Films for High Dielectric HfOxNy Formations  著者 和文: T. Kurose, T. Uchikawa, S. Ohmi, T. Sakai.   英文: T. Kurose, T. Uchikawa, S. Ohmi, T. Sakai.   言語 English  掲載誌/書名 和文:   英文: Trans. Mat. Res. Soc. Japan  巻, 号, ページ Vol. 30        pp. 209-212 出版年月 2005年  出版者 和文:   英文:   会議名称 和文:   英文:   開催地 和文:   英文:

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