AlON Thin Films Formed by ECR Plasma Oxidation for High-k gate Insulator Application

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	AlON Thin Films Formed by ECR Plasma Oxidation for High-k gate Insulator Application

著者

和文:	Go Yamanaka, Takafumi Uchikawa, Shun-ichiro Ohmi, Tetsushi Sakai.
英文:	Go Yamanaka, Takafumi Uchikawa, Shun-ichiro Ohmi, Tetsushi Sakai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Material Research Society Fall Meeting Abstracts

巻, 号, ページ

pp. 140

出版年月

2003年12月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:	Boston, USA