Feasibility Study of Plasma Doping on Si Substrates with Photo-Resist Patterns

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Feasibility Study of Plasma Doping on Si Substrates with Photo-Resist Patterns

著者

和文:	I. Aiba, Y. Sasaki, K. Okashita, H. Tamura, Y. Fukagawa, K. Tsutsui, H. Ito, K. Kakushima, B. Mizuno, H. Iwai.
英文:	I. Aiba, Y. Sasaki, K. Okashita, H. Tamura, Y. Fukagawa, K. Tsutsui, H. Ito, K. Kakushima, B. Mizuno, H. Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Ext. Abs. of 5th International Workshop on Junction Technology

巻, 号, ページ

pp. 71-72

出版年月

2005年6月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	5th International Workshop on Junction Technology (IWJT2005)

開催地

和文:
英文:	Osaka, Japan