弗化物ヘテロデバイス集積化に向けたCdF<sub>2</sub>分子線によるSi基板表面改質法 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	弗化物ヘテロデバイス集積化に向けたCdF₂分子線によるSi基板表面改質法
英文:

著者

和文:	大前譲治, 前田元輝, 杉崎剛, 渡邉聡, 筒井一生.
英文:	大前譲治, 前田元輝, 杉崎剛, 渡邉聡, 筒井一生.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第66回応用物理学会学術連合講演会予稿集
英文:

巻, 号, ページ

Vol. 3 pp. 1214

出版年月

2005年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第66回応用物理学会学術連合講演会
英文:

開催地

和文:	徳島
英文:

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.