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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Effect of RF-Biased Electrode on Microwave Plasma 
著者
和文: Y.Ohtsu, 奥野 喜裕, H.Fujita.  
英文: Y.Ohtsu, Y.Okuno, H.Fujita.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Japanese Journal of Applied Physics 
巻, 号, ページ Vol. 32    No. 6    pp. 2873-2877
出版年月 1993年6月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
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開催地
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英文: 

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