Simplified Cascaded Arc Discharge Source for Production of a Processing Plasma

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Simplified Cascaded Arc Discharge Source for Production of a Processing Plasma

著者

和文:	奥野喜裕, S.Yagura, H.Ishikura, H.Fujita.
英文:	Y.Okuno, S.Yagura, H.Ishikura, H.Fujita.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Review of Scientific Instruments

巻, 号, ページ

Vol. 64 No. 4 pp. 990-995

出版年月

1993年4月

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
英文: