窒化ケイ素の活性金属ろう付界面挙動

論文・著書情報

タイトル

和文:	窒化ケイ素の活性金属ろう付界面挙動
英文:	Behavior on the Brasing Interface between Si₃N₄ Ceramics and Ag-Cu-Ti Brazing Filler Metals

著者

和文:	斎藤　修, 宮川和幸, 鈴村暁男.
英文:	斎藤　修, 宮川和幸, 鈴村暁男.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本機械学会第7回機械材料・材料加工技術講演会　講演論文集
英文:	Proceedings of The 7th Materials and Prcessing Conference,JSME,1999

巻, 号, ページ

No. 99-23 pp. 289-290

出版年月

1999年

出版者

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会議名称

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開催地

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