Low Damage GaInAsP/InP Nano-Structures by CH<sub>4</sub>/H<sub>2</sub> Reactive Ion Etching and Its Application to Low Threshold Gain-Coupled DFB Lasers

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Low Damage GaInAsP/InP Nano-Structures by CH₄/H₂ Reactive Ion Etching and Its Application to Low Threshold Gain-Coupled DFB Lasers

著者

和文:	Nobuhiro Nunoya, Madoka Nakamura, Suguru Tanaka, Hideo Yasumoto, Ichiro Fukushi, Shigeo Tamura, Shigehisa Arai.
英文:	Nobuhiro Nunoya, Madoka Nakamura, Suguru Tanaka, Hideo Yasumoto, Ichiro Fukushi, Shigeo Tamura, Shigehisa Arai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	The 11th Int. Conf. on Indium Phosphide and Related Materials (IPRM'99), Davos

巻, 号, ページ

No. TuB4-1 pp. 349-352

出版年月

1999年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: