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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Silicide Formation in Co-Deposited TiSi┣D2X┫D2 Layers: The Effect of Deposition Temperature and Mo 
著者
和文: 大見俊一郎.  
英文: SHUN-ICHIRO OHMI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:J. Electronic Materials 
巻, 号, ページ Vol. 28        pp. 1115-1122
出版年月 1999年 
出版者
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会議名称
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開催地
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