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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Measurement Technique for the evaluation of residual stress in epitaxial thin film by asymmetric X-ray diffraction 
著者
和文: Hiroshi UCHIDA, Takanori KIGUCHI, Atsushi SAIKI, Naoki WAKIYA, Nobuo ISHIZAWA, Kazuo SHINOZAKI, Nobuyasu MIZUTANI.  
英文: Hiroshi UCHIDA, Takanori KIGUCHI, Atsushi SAIKI, Naoki WAKIYA, Nobuo ISHIZAWA, Kazuo SHINOZAKI, Nobuyasu MIZUTANI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:J. Ceram. Soc. Japan 
巻, 号, ページ Vol. 107    No. 7    pp. 606-610
出版年月 1999年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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