Very-High fT and fmax Silicon Bipolar Transistors using Ultra-High Performance Super Self-Aligned Process Technology for Low-Energy and Ultra-High Speed LSI&#39;s

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Very-High fT and fmax Silicon Bipolar Transistors using Ultra-High Performance Super Self-Aligned Process Technology for Low-Energy and Ultra-High Speed LSI's

著者

和文:	M. Urajin, J. Kodate, Y. Kobayashi, S. Konaka, Tetsushi Sakai.
英文:	M. Urajin, J. Kodate, Y. Kobayashi, S. Konaka, Tetsushi Sakai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	International Electron Devices Meeting

巻, 号, ページ

pp. 735-738

出版年月

1995年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: