A 20-ps Si Bipolar IC Using Advanced Super Self-Aligned Process Technology with Collector Ion Implantation

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	A 20-ps Si Bipolar IC Using Advanced Super Self-Aligned Process Technology with Collector Ion Implantation

著者

和文:	S. Konaka, E. Yamamoto, K. Sakuma, Y. Amemiya, Tetsushi Sakai.
英文:	S. Konaka, E. Yamamoto, K. Sakuma, Y. Amemiya, Tetsushi Sakai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	IEEE Transaction on Electron Devices

巻, 号, ページ

Vol. ED-36 No. 7 pp. 1370-1374

出版年月

1989年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
英文: