非ｃ軸配向エピタキシャルSrBi<sub>2</sub>Ta<sub>2</sub>O<sub>9</sub>薄膜のMOCVD合成とその評価 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	非ｃ軸配向エピタキシャルSrBi₂Ta₂O₉薄膜のMOCVD合成とその評価
英文:

著者

和文:	石川勝之, 佐伯　淳, 斉藤啓介, 舟窪　浩.
英文:	石川勝之, 佐伯　淳, 斉藤啓介, 舟窪　浩.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第４６回応用物理学関経連合講演会講演予稿集
英文:

巻, 号, ページ

pp. 563

出版年月

1999年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文:

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