エピタキシャル成長SrBi<sub>2</sub>Ta<sub>2</sub>O<sub>9</sub>薄膜のMOCVD合成とその電気的特性 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	エピタキシャル成長SrBi₂Ta₂O₉薄膜のMOCVD合成とその電気的特性
英文:

著者

和文:	舟窪浩, 石川勝之, 額賀紀全, 斉藤啓介, 佐伯淳, 鈴木利昌, 西湯二, 藤本正之.
英文:	舟窪浩, 石川勝之, 額賀紀全, 斉藤啓介, 佐伯淳, 鈴木利昌, 西湯二, 藤本正之.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第３８回セラミックス基礎科学討論会講演要旨集
英文:

巻, 号, ページ

pp. 354-355

出版年月

2000年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.