【重要】T2R2・STARSearchの停止と後継システムについて English

Home > ヘルプ 論文・著書情報 タイトル 和文:   英文: Hot electron interference by 40nm-pitch double slit buried in semiconductor  著者 和文: H.Hongo, Y.Miyamoto, M.Suhara, K.Furuya.   英文: H.Hongo, Y.Miyamoto, M.Suhara, K.Furuya.   言語 English  掲載誌/書名 和文:   英文: Microelectronic Engineering  巻, 号, ページ Vol. 35        pp. 337 出版年月 1997年  出版者 和文:   英文:   会議名称 和文:   英文:   開催地 和文:   英文:

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