Removal of oxide film Prepared under BWR Condition by Using Atmospheric CF4/O2 Plasma Decontamination Process

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Removal of oxide film Prepared under BWR Condition by Using Atmospheric CF4/O2 Plasma Decontamination Process

著者

和文:	H. Windardo, T. Matsumoto, H. Akatsuka, M. Suzuki.
英文:	H. Windardo, T. Matsumoto, H. Akatsuka, M. Suzuki.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Nucl. Sci. Tech.

巻, 号, ページ

Vol. 37 No. 10 pp. 913-918

出版年月

2000年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI