Seventy nm pitch patterning on CaF2 by e-beam exposure : An inorganic resist and a contamination resist

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Seventy nm pitch patterning on CaF2 by e-beam exposure : An inorganic resist and a contamination resist

著者

和文:	H.Hongo, T.Hattori, Y.Miyamoto, K.Furuya, K.Matsunuma, M.Watanabe, M.Asada.
英文:	H.Hongo, T.Hattori, Y.Miyamoto, K.Furuya, K.Matsunuma, M.Watanabe, M.Asada.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 35 No. 12A pp. 6342

出版年月

1996年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: