ゾルゲル法によるLaAlO<sub>3</sub>/Si構造上へのSr<sub>0.8</sub>Bi<sub>2.2</sub>Ta<sub>2</sub>O<sub>9</sub>薄膜の形成 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	ゾルゲル法によるLaAlO₃/Si構造上へのSr_0.8Bi_2.2Ta₂O₉薄膜の形成
英文:

著者

和文:	朴炳垠, 石原宏.
英文:	朴炳垠, 石原宏.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第61回応用物理学会学術講演会
英文:

巻, 号, ページ

pp. 7a-G-8/II

出版年月

2000年

出版者

和文:
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会議名称

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英文:

開催地

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英文:

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