非対称Ｘ線回折によるエピタキシャル薄膜の残留応力の評価手法

論文・著書情報

タイトル

和文:	非対称Ｘ線回折によるエピタキシャル薄膜の残留応力の評価手法
英文:	:Measurement Technique for the Evaluation of Residual Stress in Epitaxial Thin Film by Asymmetric　　X-Ray Diffraction

著者

和文:	内田寛, 木口賢紀, 佐伯淳, 脇谷尚樹, 石澤伸夫, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	内田寛, 木口賢紀, 佐伯淳, 脇谷尚樹, 石澤伸夫, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会学術論文誌
英文:	:J. Ceram. Soc. Japan

巻, 号, ページ

Vol. 107 No. 7 pp. 606-610

出版年月

1999年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: