エピタキシャル成長SrBi2Ta2O9薄膜のMOCVD合成とその電気的特性

論文・著書情報

タイトル

和文:	エピタキシャル成長SrBi₂Ta₂O₉薄膜のMOCVD合成とその電気的特性
英文:

著者

和文:	H.Funakubo, K.Ishikawa, N/Nukaga, K.Saito, A.Saiki, T.Suzuki, Y.Nishi, M.Fujimoto.
英文:	H.Funakubo, K.Ishikawa, N/Nukaga, K.Saito, A.Saiki, T.Suzuki, Y.Nishi, M.Fujimoto.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第３８回セラミックス基礎科学討論会講演要旨集
英文:

巻, 号, ページ

pp. 354-55

出版年月

2000年

出版者

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会議名称

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開催地

和文:
英文: