エピタキシャル成長Bi<sub>4</sub>Ti<sub>3</sub>O<sub>12</sub>薄膜のMOCVD合成と電気的特性評価（１）ｃ軸配向 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	エピタキシャル成長Bi₄Ti₃O₁₂薄膜のMOCVD合成と電気的特性評価（１）ｃ軸配向
英文:

著者

和文:	渡辺隆之, 佐伯　淳, 斉藤啓介, 舟窪　浩.
英文:	渡辺隆之, 佐伯　淳, 斉藤啓介, 舟窪　浩.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	春季応用物理学会講演予稿集
英文:

巻, 号, ページ

pp. 30a-P11-23

出版年月

2000年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文:

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