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論文・著書情報


タイトル
和文:暴露装置を用いた有機系ガスのウェハ表面汚染の評価 クリーンルーム中におけるSiウェハの表面汚染に関する研究 その2 
英文: 
著者
和文: 田中克昌, 藤井修二, 湯浅和博, 鍵直樹.  
英文: 田中克昌, 藤井修二, 湯浅和博, 鍵直樹.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:日本建築学会学術講演梗概集 
英文: 
巻, 号, ページ Vol. D-2        pp. 719-720
出版年月 1998年 
出版者
和文: 
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会議名称
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開催地
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英文: 

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