Free carrier optical absorption used to analyze the electrical properties of polycrystalline silicon films formed by plasma enhanced chemical vapor deposition

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Free carrier optical absorption used to analyze the electrical properties of polycrystalline silicon films formed by plasma enhanced chemical vapor deposition

著者

和文:	T. Watanabe, T. Sameshima, K. Nakahata, T. Kamiya, I. Shimizu.
英文:	T. Watanabe, T. Sameshima, K. Nakahata, T. Kamiya, I. Shimizu.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Thin Solid Films

巻, 号, ページ

Vol. 383 pp. 248

出版年月

2001年

出版者

和文:
英文:

会議名称

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開催地

和文:
英文: