Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文:アメリカを中心とするゲート絶縁膜用High-k材料の最新技術動向 
英文: 
著者
和文: 大見俊一郎.  
英文: SHUN-ICHIRO OHMI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:Material Stage 
英文: 
巻, 号, ページ Vol. 1    No. 2    pp. 1-11
出版年月 2001年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.