Chemically Amplifiled Positive Resist based on Silsesquioxane for 157 nm Lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Chemically Amplifiled Positive Resist based on Silsesquioxane for 157 nm Lithography

著者

和文:	T. Fujigaya, Y. Shibasaki, M. Ueda.
英文:	T. Fujigaya, Y. Shibasaki, M. Ueda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Forefront of Lithographic Materials Research

巻, 号, ページ

pp. 219-228

出版年月

2001年

出版者

和文:
英文:	Forefront of Lithographic Materials Research

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: