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論文・著書情報


タイトル
和文:High-k　ゲート絶縁膜用酸化物材料の研究 
英文: 
著者
和文: 徳光永輔, 大見俊一郎, 岩井洋.  
英文: Eisuke Tokumitsu, SShun-Ichiro Ohmi, Hiroshi Iwai.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:電気学会電子材料研究会資料 
英文: 
巻, 号, ページ Vol. EFM-01        pp. 37-41
出版年月 2001年9月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:電気学会電子材料研究会 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 

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