MOCVD法によるSrRuO3薄膜の低温化合成の検討 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	MOCVD法によるSrRuO3薄膜の低温化合成の検討
英文:

著者

和文:	奥田律一, 篠崎和夫, 水谷惟恭, 舟窪浩.
英文:	奥田律一, 篠崎和夫, 水谷惟恭, 舟窪浩.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第46回応用物理学会
英文:

巻, 号, ページ

No. 29p-K-3 pp. 568

出版年月

1999年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文:

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