MOCVD法によるNb-SrTiO<sub>3</sub>/Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/Nb-SrTiO<sub>3</sub>積層薄膜の成膜とI-V特性 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	MOCVD法によるNb-SrTiO₃/Bi₂O₃/Nb-SrTiO₃積層薄膜の成膜とI-V特性
英文:

著者

和文:	永戸厚, 杉浦光典, 永野大介, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	永戸厚, 杉浦光典, 永野大介, 脇谷尚樹, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第17回日本セラミックス協会関東支部研究発表会
英文:

巻, 号, ページ

No. 1C13 pp. 48

出版年月

2001年

出版者

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会議名称

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開催地

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