RFマグネトロンスパッタリング法による導電性LaNiO<sub>3</sub>薄膜の低温エピタキシャル成長 | T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	RFマグネトロンスパッタリング法による導電性LaNiO₃薄膜の低温エピタキシャル成長
英文:

著者

和文:	脇谷尚樹, 東孝彰, 篠崎和夫, 水谷惟恭.
英文:	脇谷尚樹, 東孝彰, 篠崎和夫, 水谷惟恭.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第14回日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集
英文:

巻, 号, ページ

No. 1D18 pp. 33

出版年月

2001年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.