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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Memory retention characteristics of MFMIS structure using SBT and Al2O3 buffer layer 
著者
和文: S.K.Kang, H.Ishiwara.  
英文: S.K.Kang, H.Ishiwara.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:10th Intern. Meeting on Ferroelectrics, Madrid 
巻, 号, ページ     No. PS5B-15    pp. 241
出版年月 2001年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
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開催地
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英文: 

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