ダブルアルコキシド原料を用いた溶液気化MOCVD法によるSrBi<sub>2</sub>Ta<sub>2</sub>O<sub>9</sub>薄膜の作製(2) | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	ダブルアルコキシド原料を用いた溶液気化MOCVD法によるSrBi₂Ta₂O₉薄膜の作製(2)
英文:

著者

和文:	藤井俊成, 舟窪浩, 石原宏.
英文:	藤井俊成, 舟窪浩, 石原宏.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第48回応用物理学関係連合講演会
英文:

巻, 号, ページ

No. 30p-YA-1

出版年月

2001年

出版者

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会議名称

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開催地

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英文:

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