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タイトル
和文:
英文:
A Positive-working Alkaline Developable Photoresist Based on Partially tert-Protected Calix[4]resorcinarene and A Photoacid Generator
著者
和文:
K. Y-Gill, J-B. Kim, T. Fujigaya, Y. Shibasaki,
M. Ueda
.
英文:
K. Y-Gill, J-B. Kim, T. Fujigaya, Y. Shibasaki,
M. Ueda
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
J.Mater. Chem.
巻, 号, ページ
Vol. 12 pp. 53-57
出版年月
2002年
出版者
和文:
英文:
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
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