DFT Calculation of Photoabsorption Spectra in the VUV Region for Design of Photoresist Materials for 157 nm Lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	DFT Calculation of Photoabsorption Spectra in the VUV Region for Design of Photoresist Materials for 157 nm Lithography

著者

和文:	S. Ando, T. Fujigaya, M. Ueda.
英文:	S. Ando, T. Fujigaya, M. Ueda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J.Photopolym. Sci. Technol.

巻, 号, ページ

Vol. 15 No. 4 pp. 559-568

出版年月

2002年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
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