CH<sub>4</sub>/H<sub>2</sub>ドライエッチングによるサイズ均一性に優れた多層量子細線構造

論文・著書情報

タイトル

和文:	CH₄/H₂ドライエッチングによるサイズ均一性に優れた多層量子細線構造
英文:	Multiple-Quantum-Wire Structure with Good Size Uniformity Fabricated by CH₄/H₂ Dry Etching

著者

和文:	佐野琢哉, 八木英樹, 村主賢悟, 田村茂雄, 丸山武男, A. Haque, 荒井滋久.
英文:	佐野琢哉, 八木英樹, 村主賢悟, 田村茂雄, 丸山武男, A. Haque, 荒井滋久.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第63回応用物理学会学術講演会
英文:	The 63rd Autumn Meeting, 2002; The Japan Society of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 新潟 No. 25a-ZB-3

出版年月

2002年

出版者

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会議名称

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開催地

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