Characterization of Lu<sub>2</sub>O<sub>3</sub> High-k Thin Films on Si(100) Fabricated by E-beam Deposition Method

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Characterization of Lu₂O₃ High-k Thin Films on Si(100) Fabricated by E-beam Deposition Method

著者

和文:	S.Ohmi, M.Takeda, H.Ishiwara, H. Iwai.
英文:	S.Ohmi, M.Takeda, H.Ishiwara, H. Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	ECS International Semiconductor Technology Conference 2002

巻, 号, ページ

pp. Abstract No.59

出版年月

2002年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
英文: