Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:MFIS devices with Al2O3 and LaAlO3 buffer layer 
著者
和文: H.Ishiwara, B-E.Park, S-K.Kang.  
英文: H.Ishiwara, B-E.Park, S-K.Kang.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:ONR Workshop on Ferroelectric Semiconductor Interfaces, Kona 
巻, 号, ページ     No. 3b-1   
出版年月 2002年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.