RFマグトロンスパッタ法によるBi<sub>2</sub>SiO<sub>5</sub>-SrBi<sub>2</sub>Ta<sub>2</sub>O<sub>9</sub>強誘電体薄膜の作製 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	RFマグトロンスパッタ法によるBi₂SiO₅-SrBi₂Ta₂O₉強誘電体薄膜の作製
英文:

著者

和文:	菊地真, 石原宏.
英文:	菊地真, 石原宏.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	第63回応用物理学関係連合講演会
英文:

巻, 号, ページ

No. 27a-P14-3

出版年月

2002年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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英文:

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