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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:A novel heteroepitaxy method of Ge films on CaF┣D22┫D2 by electron beam exposure(共著) 
著者
和文: 石原宏.  
英文: HIROSHI ISHIWARA.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:J. Appl. Phys. 
巻, 号, ページ Vol. 63        pp. 4
出版年月 1988年 
出版者
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会議名称
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開催地
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