Dry etching characteristics of TiN film using Ar/CHF3, Ar/Cl2, and Ar/BCl3 gas chemicals in an inductively coupled plasma

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Dry etching characteristics of TiN film using Ar/CHF₃, Ar/Cl₂, and Ar/BCl₃ gas chemicals in an inductively coupled plasma

著者

和文:	J. Tonotani, T. Iwamoto, F. Sato, K. Hattori, S. Ohmi, H. Iwai.
英文:	J. Tonotani, T. Iwamoto, F. Sato, K. Hattori, S. Ohmi, H. Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Vac. Sci. Technol.

巻, 号, ページ

Vol. B21 No. 5 pp. 2163-2168

出版年月

2003年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
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開催地

和文:
英文: