Characterization of La2O3 and Yb2O3 Thin Films for High-k Gate Insulator Application

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Characterization of La₂O₃ and Yb₂O₃ Thin Films for High-k Gate Insulator Application

著者

和文:	S. Ohmi, C. Kobayashi, I. Kashiwagi, C. Ohshima, H. Ishiwara, H. Iwai.
英文:	S. Ohmi, C. Kobayashi, I. Kashiwagi, C. Ohshima, H. Ishiwara, H. Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	J. Electrochem. Soc.

巻, 号, ページ

Vol. 150 pp. F134-F140

出版年月

2003年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: